曝光设备的分类是什么？（曝光设备分为哪些级别？）

光刻设备的分类

光刻设备用于半导体制造工艺中的电路设计，它是将图案转移到硅片上的关键设备。 根据光源和光刻工艺类型的不同，光刻设备主要分为以下几类：

1.曝光光源的分类

紫外（UV）光刻机：采用紫外光作为光源，一般采用紫外光作为光源。 193 的波长范围为 nm 至 248 nm。 极紫外（EUV）光刻设备：通过使用波长为13.5nm的极紫外光作为光源，可以实现更精细的图案化。

2.光刻工艺分类

接触式光刻：光刻胶与掩模直接接触，可以将图案转移到硅片上。 接近光刻：光刻胶和掩模之间有很小的间隙，避免了接触光刻造成的缺陷。 投影光刻：掩模版与光刻胶之间有固定距离，通过投影透镜将掩模版图案缩小投影到硅片上。

3.一般分类

KrF曝光设备：这是一种采用248nm KrF激光器作为光源的UV接近曝光设备。 ArF光刻机：采用193nm ArF激光器作为光源的紫外投影光刻机。 EUV光刻机：采用13.5nm极紫外光作为光源的投影光刻机。 水浸光刻设备：利用水作为投影镜头和光刻胶之间的浸没介质，以提高分辨率并减少畸变。 多次曝光光刻机：使用多次曝光工艺来实现所需的图案精度和良率。