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光刻设备的分类
光刻设备分为接触式和投影式两种。马苏。 。
接触式光刻机：镜头与掩模版和晶圆片直接接触，将掩模版上的图案转移到晶圆片上。 虽然更准确，但它仅适用于较小的掩模和晶圆尺寸。 投影光刻机：透镜缩小掩模上的图案并将其投影到晶圆上。 虽然精度较低，但适用于掩模或晶圆尺寸较大的情况。
曝光机参数表
| 参数 | 含义 | 单位 |
|---|---|---|
| 分辨率 | 可分辨率的最小特征尺寸 | 纳米（nm） |
| 景深对焦 | 允许晶圆厚度偏差 | 微米（μm） |
| 对位精度 | 掩模到晶圆对准精度 | 纳米（nm） |
| 重复性 | 精度多次曝光期间图案重复对准的数量 | 纳米 (nm) |
| 可覆盖的曝光区域尺寸 | 每个晶圆面积（以毫米为单位） (mm)一次曝光 | |
| 光源波长 | 曝光时使用的光源波长 | 纳米(nm) |
| 模板类型 | 使用的掩模类型 | 二进制、相移等 |
| 通量 | 每秒曝光的像素数 | 每秒像素数 |
| 交货时间 | 从下单到交货的时间 | 月 |
| 成本 | 购买光刻设备费用 | 美元 |
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