曝光设备分为哪几类？（曝光设备主要按用途分类。）

2.光刻法

接触式光刻法：这是一种将掩模直接接触晶圆表面进行曝光的方法，但准确度低，已被废除。 接近光刻：曝光，同时保持掩模和晶圆之间的恒定距离。 精度高于接触式光刻。 投影光刻：使用透镜组将掩模上的图案投影到晶圆表面上更加精确，是主要的光刻方法。 浸没式光刻：在掩模和晶圆之间填充液体可以提高分辨率和曝光均匀性。 水浸光刻：使用水作为浸没液体成本较低。 油浸光刻：使用油作为浸液，具有良好的光学性能，可以提高精度。

3.其他分类

光刻设备除了上述分类外，还可以根据以下因素进一步分类：

分辨率：

strong>可实现的最小线宽或图案尺寸。 吞吐量：每小时生产的晶圆数量。 对准精度：将掩模图案精确转移到晶圆上的能力。